磁场在硅集成电路制造工艺中的应用

赵雨; 陈东生

###

DOI:

上海电力大学学报:2009,25(4):388-390

查看/发表评论过刊浏览高级检索 HTML

←前一篇 | 后一篇→

码上扫一扫！

下载全文

磁场在硅集成电路制造工艺中的应用

赵雨, 陈东生

(上海电力学院数理系, 上海 201300)

Application of Magnetic Field in Silicon Integrated Circuit Manufacture

ZHAO Yu, CHEN Dong-sheng

(Dept. of Mathematics & Physics, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 201300, China)

摘要

图/表

参考文献

本刊相似文献

All Journals 相似文献

All Journals 引证文献

本文已被：浏览 1038次下载 518次
投稿时间：2009-03-04

中文摘要: 分析了磁控直拉法技术和磁场增强型反应等离子刻蚀技术在现代半导体集成电路制造工艺中的应用.简要论述了学科交叉的重要意义.

中文关键词: 磁场半导体集成电路交叉科学

Abstract:Two items of application of magnetic field in silicon integrated circuit manufacture namely, Magnetic Field Applied Czochralski and Merle Etcher technology are introduced and analyzed. Importance of interdisciplinary science is discussed.

keywords: magnetic field semiconductor integrated circuit inter siciplinary science

文章编号：20090419 中图分类号： 文献标志码：

基金项目:上海市青年科技启明星计划(07QA14026);国家自然科学基金(10804072)

作者	单位
赵雨	上海电力学院数理系, 上海 201300
陈东生	上海电力学院数理系, 上海 201300

Author Name	Affiliation
ZHAO Yu	Dept. of Mathematics & Physics, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 201300, China
CHEN Dong-sheng	Dept. of Mathematics & Physics, Shanghai University of Electric Power, Shanghai 201300, China

引用文本：
赵雨,陈东生.磁场在硅集成电路制造工艺中的应用[J].上海电力大学学报,2009,25(4):388-390.
ZHAO Yu,CHEN Dong-sheng.Application of Magnetic Field in Silicon Integrated Circuit Manufacture[J].Journal of Shanghai University of Electric Power,2009,25(4):388-390.